LW400LJT芯片檢查顯微鏡

主要技術參數：

1． 鏡筒：三目觀察筒,傾斜30?,(內置檢偏振片,可進行切換)， 雙目瞳距調節(jié)范圍：53~75mm

2． 目鏡：大視野10X/22mm

3． 無限遠長工作距離平場消色差物鏡（無蓋玻片)

PL5X/ 0.12工作距離 26.1mm

PL 10X/ 0.25工作距離 20.2 mm

PL 20X/ 0.40工作距離8.80mm

PL 50X/ 0.70工作距3.685mm

PL 80X/ 0.80工作距離1.25mm

4．落射照明系統：6V20W鹵素燈,亮度可調

內置視場光闌、孔徑光闌、濾色片（藍、黃、綠、磨砂）轉換裝置，推拉式檢偏器與起偏器

5．調焦機構：粗微動同軸調焦, 微動格值0.7μm,帶鎖緊和限位裝置

6．轉換器：五孔(內向式滾珠內定位)

7．載物臺：尺寸：280mm*270mm，移動范圍：（X）204mm*（Y）204mm

8．透射照明系統： 阿貝聚光鏡  NA.1.25  可上下升降

9．濾色片：藍濾色片和磨砂玻璃

10、偏光裝置： 起偏振器，可360度旋轉，可推拉切換

檢偏振器，可推拉切換

LW400LJT芯片檢查顯微鏡

選購件：

1.無限遠長工作距離平場消色差物鏡（無蓋玻片)

PL60X /0.75工作距離1.9 mm

PL100X（干式）/ 0.85工作距離0.35 mm

用途：

LW400LJT適用于對不透明物體的顯微觀察及8寸芯片觀察。采用優(yōu)良的無限遠光學系統與模塊化功能設計理念，可以方便升級系統，實現偏光觀察、暗場觀察等功能，緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現了顯微操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于金相組織及表面形態(tài)的顯微觀察，是金屬學、礦物學、精密工程學研究的理想儀器。